2012年3月16日，德国爱思强股份有限公司在苏州设立的培训及演示中心成功揭幕，培训中心借助领先企业及前端研究机构的合作优势，将为业界提供更高水准的专业培训。开幕式当天，针对于爱思强苏州培训及演示中心的相关情况以及爱思强对于未来市场趋势的判断和研发方向等问题，德国爱思强总裁兼首席执行官Paul Hyland先生接受了多家媒体的采访。

　　“当前，MOCVD市场在需求增速减缓下将进入一个‘消化期’，我们要等待一定的时间使市场恢复，但我认为这仍是一个值得期待的时期，我们的问题不在于未来市场是否会回暖，而是在于何时会回暖，”Paul Hyland表示。

　　记者：首先，请您介绍一下爱思强新设立的培训中心的相关情况?

　　Paul Hyland：通过这个中心，我们将利用爱思强最新的技术和最高质量培训，在LED领域、纳米技术、包括硅衬底氮化技术等方面主动为客户的技术开发提供支持。我们主要关注那些在生产过程中对实现更长运行时间和更高成品率起决定性作用的影响因素，通过操作、保养和工艺优化乃至生产管理实现运行成本降低。

　　培训中心所设置的培训课程中将使用爱思强最新一代的CRIUS®II-XL和AIX G5 HT设备，爱思强新客户均可在购买协议中免费享受培训服务。

　　记者：在您看来，目前的MOCVD市场需求呈现出什么样的特点?

　　Paul Hyland：在过去几个月我们看到市场开始有回暖的迹象，比如在台湾和韩国一些公司的LED出货开始有上升的表现，据他们反映3月份前MOCVD的利用率为60%～70%。

　　目前在中国已安装了500台爱思强的MOCVD设备，仅去年一年就增加了250多台，那么在目前情况下，应客户的需求，我们会免费为客户提供强化且科学的培训，这将有助于促进LED整个工艺过程和产品特性的改进，提升照明产品的质量。

　　记者：随着LED市场的发展，全球LED外延厂竞相扩增6寸以上MOCVD机台，爱思强在未来的研究方向上又将作何调整?以及如何预测未来半导体照明设备市场趋势?

　　Paul Hyland：大尺寸衬底片是一个发展趋势，而4寸、6寸、8寸衬底是一个必然趋势。同时，自动化程度提高也是一个趋势，就是说我们从传统的手动放片转到现在的自动放片，包括全自动，这还是一个趋势。我们最终的目的是要加大产能，减少客户的单片成本。

　　未来MOCVD设备开发的趋势将围绕如何提高设备稳定性、提高产品良率、降低材料使用量等方面进行设计。具体来看，主要是从提高产品良率及产能两方面同时着手，降低外延成本，提高机台稳定性，扩大产能。而此次苏州演示实验室里的新产品CRIUS II-XL，就可以一次性加工19片4英寸晶片，是当前市场上制造容量最大的MOCVD设备。

　　目前行业可以说是进入了一个“消化期”，这对我们来说也是在为未来做准备的时期，我们要等待一定的时间使市场恢复，但我认为这仍是一个值得期待和兴奋的时期，我们的问题不在于未来市场是否会回暖，而是在于何时会回暖。

　　记者：我们了解到，爱思强首套19x4英寸规格的CRIUS II-XL系统目前已经在台湾晶元光电开始用于LED生产，在产能方面是否已经得到了检验?

　　Paul Hyland：爱思强19x4英寸规格的新型CRIUS II-XL反应器在产能方面较原来的CRIUS II可提高46%，具备了LED产业同级设备中最大的产能和最优化的运作成本，同时CRIUS II-XL的设计理念是在最大化产能的同时兼具均匀一致性。

　　目前我们已经向一些最优先的高端客户发出了这个新产品，而我们从客户那里得到的应用反馈也是非常良好的。