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罗姆首次实现SiC-SBD与SiC-MOSFET的一体化封装

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2012-06-21 作者:LEDth 来源:新世纪LED网 浏览量: 网友评论: 0

摘要: 本产品于世界首次※成功实现SiC-SBD与SiC-MOSFET的一体化封装。内部二极管的正向电压(VF)降低70%以上,实现更低损耗的同时还可减少部件个数。生产基地在ROHM Apollo Co., Ltd.(日本福冈县),从6月份开始出售样品,从7月份开始陆续量产。

  日本知名半导体制造商罗姆(总部位于日本京都)面向工业设备和太阳能发电功率调节器等的逆变器、转换器,开发出耐压高达1200V的第2代SiC(Silicon carbide:碳化硅)MOSFET“SCH2080KE”。此产品损耗低,可靠性高,在各种应用中非常有助于设备实现更低功耗和小型化。

  本产品于世界首次成功实现SiC-SBD与SiC-MOSFET的一体化封装。内部二极管的正向电压(VF)降低70%以上,实现更低损耗的同时还可减少部件个数。

  生产基地在ROHM Apollo Co., Ltd.(日本福冈县),从6月份开始出售样品,从7月份开始陆续量产。

  现在,在1200V级别的逆变器和转变器中一般使用Si-IGBT,但尾电流和外置FRD的恢复导致的功率转换损耗较大,因此,更低损耗、可高频动作的SiC-MOSFET的开发备受期待。但是,传统的SiC-MOSFET,体二极管通电导致的特性劣化(导通电阻和正向电压的上升/耐性劣化)和栅氧化膜故障等可靠性方面的课题较多,之前无法实现真正的全面导入。

  此次,罗姆通过改善晶体缺陷相关工艺和元件构造,成功地攻克了包括体二极管在内的可靠性方面的所有课题。而且,与传统产品相比,单位面积的导通电阻降低了约30%,实现了芯片尺寸的小型化。

  另外,通过独创的安装技术,还成功将传统上需要外置的SiC-SBD一体化封装,使SiC-MOSFET的体二极管长久以来的课题—降低正向电压成为可能。

  由此,与一般的逆变器中所使用的Si-IGBT相比,工作时的损耗降低了70%以上,实现了更低损耗的同时,还实现了50kHz以上的更高频率,而且有助于外围部件的小型化。

  另外,此次还同时开发了与SiC-SBD非同一封装的型号SiC-MOSFET“SCT2080KE”,提供满足不同电路构成和客户需求的产品。两种产品将在6月19日(周二)~21日(周四)于上海世博展览馆举行的聚集电力电子、智能运动、电力特性等最新技术的专业类展会“PCIM Asia 2012”的罗姆展台展出。欢迎莅临现场参观。

  【特点】

  1) SiC-MOSFET与SiC-SBD一体化封装

  成功实现“SCH2080KE”与传统上需要外置的SiC-SBD的一体化封装,降低了正向电压。可减少部件个数,而且有助于进一步节省空间。产品阵容中还包括传统结构的“SCT2080KE”,可满足客户的多种需求。

  2) 无开启电压,具备卓越的电流电压特性

  通过优化工艺和元件构造,与第1代产品相比,单位面积的导通电阻降低约30%。不存在一般使用的Si-IGBT长久以来所存在的开启电压,因此即使在低负载运转时损耗也很低。

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