AIXTRON推出新款MOCVD设备AIX G5 HT
2010-03-01
作者：未知
来源：LEDinside
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摘要： 德国LED设备大厂AIXTRON AG指出，新一代MOCVD Platform AIX G5 HT系统已达成生产力目标。据悉，新系统在600 mbar以上的高压下能以极高的速率完成高质量的氮化镓沉淀，产量超过前一代系统的1倍，氮化镓/氮化铟镓也有优异的均一性。
德国LED设备大厂AIXTRON AG指出，新一代MOCVD Platform AIX G5 HT系统已达成生产力目标。
据悉，新系统在600 mbar以上的高压下能以极高的速率完成高质量的氮化镓沉淀，产量超过前一代系统的1倍，氮化镓/氮化铟镓也有优异的均一性。在无反应炉烘培或替换任何零件的情况下，上述晶膜的生成在台湾晶电厂区连续进行。目前，此MOCVD反应炉正要转换至量产阶段。(编辑：CBE)
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