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基于PS球刻蚀技术制备纳米孔滤波器结构的优化分析

上传人:LEDth/整理

上传时间: 2015-03-06

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作者任良科/杜惊雷/李淑红/张志友/侯宜栋/高福华/黄霞
单位四川大学物理科学与技术学院
分类号TN383.1
发表刊物发光学报
发布时间2013年4月

  1引言

  有机发光二极管(OLED)作为一种新型固态光源,具有高效、环保、安全、柔性和超薄等诸多优点,在平板显示、照明、装饰等方面展示出良好的应用前景。白光OLED 和彩色滤波器结合被认为是实现OLED 彩色显示最有前景的方式。

  传统的彩色滤波器一般是通过添加不同颜色的染料或色素制造而成,光能经过彩色滤波器后,其强度会减弱很多,大大降低了其出光效率。而且这种滤光膜在红光区域基本是全波段透射,使显示色彩不够鲜艳浓郁。因此,研发具有通带窄、增益高的彩色滤波器是实现器件高质量显示和高能量利用率的关键。亚波长金属纳米孔异常透射现象 的发现为新型彩色滤波器的设计提供了新的途径。这种光与金属表面电子相互作用产生的特殊现象已获得广泛的研究和应用。研究表明:通过改变金属纳米孔阵列的几何参数,如孔径、周期、薄膜厚度等,可以实现对不同波长输出光的控制,特别适合用于OLED 中的彩色滤波装置。

  本文提出利用胶体晶体刻蚀与沉积技术制备银纳米孔阵列,发展了一种制备大面积彩色滤波器的简单、方便方法,并针对OLED 彩色滤波器的实际需求,开展银纳米孔滤波器模拟优化设计。文中给出了银纳米孔阵列的透射波长、透射强度、透射谱半高全宽与结构参数的关系,并做了理论分析。

  2纳米孔滤波器的制备方法

  制备纳米孔阵列的方法已有很多,从规模生产的应用成本和方便性角度出发,本文试图发展一种可用于大面积OLED 滤波器制备的胶体晶体刻蚀与真空沉积技术。制作金属纳米孔的方法如图1(a)所示。

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