氧气流量对脉冲激光沉积ZnO薄膜的形貌及光学性质影响
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上传人：曹培江、林传强、曾玉祥、柳文军、贾芳、朱德亮、马晓翠、吕有明 上传时间： 2013-01-28 浏览次数： 28 |
摘要：使用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英(SiO2)和单晶Si(111)基底上制备了具有高c轴择优取向的ZnO薄膜。测试结果显示:在30～70sccm氧气流量范围内,氧气流量50sccm时制备的ZnO薄膜具有较好的结晶质量、较高的光学透过率(≥80%)、较高的氧含量(～40.71%)、较快的生长速率(～252nm/h)和较好的发光特性:450～580nm附近发射峰最弱,同时～378nm附近的紫外发光峰最强,表明薄膜材料中含有较少的氧空位等缺陷。
1引言ZnO薄膜材料具有优异的光电、压电、电光、声光等化学物理性能,因而在紫外发射器件、紫外激光器件、压电器件、太阳能电池、透明导电膜等诸多方面具有广泛的应用前景[1,2]。目前,人们尝试采用多种方法制备ZnO,如化学气相沉积[3,4]、磁控溅射[5,6]、脉冲激光沉积[7～9]等......
1、引言
2、实验
3、结果与讨论
4、结论
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