摘要：对采用磁控溅射方法生长在玻璃和柔性聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)塑料上的氧化铟锡(ITO)薄膜的结构、光学和电学特性进行了对比研究。在两种不同的衬底上均得到了不分相的、高质量的多晶ITO薄膜,其中生长在玻璃衬底上的ITO薄膜(002)衍射峰的半峰宽为0.24°,生长在PET衬底上的为0.28°。两种样品在可见光区都具有很高的透过率,其中玻璃衬底上生长的薄膜的透过率约为92%,PET上生长的薄膜的透过率高达87%。两种薄膜均具有良好的导电性,玻璃衬底上薄膜的电阻率为4.2×10-4Ω.cm,柔性PET衬底上薄膜的电阻率为4.7×10-4Ω.cm。实验结果证明,完全可以采用磁控溅射的方法在柔性衬底上生长出高质量的ITO薄膜。

　　1引言自1907年Badlker报道了通过热蒸发镉(Cd)并使之氧化形成氧化镉(CdO)透明导电氧化物(Transparent Conductive Oxide,TCO)薄膜以来,透明导电氧化物薄膜的研究受到广泛的重视[1]。透明导电氧化物薄膜材料主要包括In、Zn、Sn和Cd的氧化物及其复合多元氧化物[2],其中铟锡合金......

　　1、引言

　　2、实验

　　3、结果与讨论

　　4、结论