磊晶的方法，基板的选择非常苛刻，需要有配合量子点晶格的性质，而且其形成的速度非常缓慢(例如每小时数微米;μm/hr)，单位面积覆盖的密度非常低，尚需真空设备进行必须的制程。

　　化学方法形成的发光奈米胶体粒子有下列好处：(1)可以大量生产并分散在溶剂中，为溶液态;(2)可以用习知的涂布方法如喷雾、浸渍或旋转涂布。涂布法在任何基板上可以瞬间成膜;(3)速度可达每秒数微米(μm/sec)，可增加千倍的速度，以形成高密度、大面积之二极管，而其面积只受限于基板的面积。

　　我们提供一种制程以均一大小颗粒的胶体氧化物、半导体、或者高分子发光奈米粒子制作高品质、窄频宽的发光体。本制程利用胶体发光奈米粒子可以均匀地分散在液体中，再使用简便的薄膜制作法如喷雾、浸渍、或者涂布将奈米粒子均匀加工在任何形状、尺寸、种类的基材上，进而作成价廉、大面积、可复性、以及高效能的发光体。

　　我们已用CdS胶体奈米证明此制程的可行性，图一显示发光二极管可由CdS奈米粒子以旋转涂布法置于硅芯片上，加上Cr/Au电极制成。图二显示此二极管的绿光光谱。

　　关键图式：

图一　CdS奈米粒子在硅芯片上制作发光二极管的结构图

图二　CdS奈米粒子发光二极管的电致发光光谱