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日本及法国科学家提升LED亮度,傚率高达20倍

2009-04-08 作者:未知 来源:中国半导体照明网 浏览量: 网友评论: 0

摘要: 最近,日本及法国研究人员证实,在LED中利用V字型脊状结构来取代平板外延片,能够使光提取效率提升20倍,该研究小组已经制造出第一个借助耦合倏逝波(evanescent wave)来提升LED的光提取效率的半导结构。

  最近,日本及法国研究人员证实,在LED中利用V字型脊状结构来取代平板外延片,能够使光提取效率提升20倍,该研究小组已经制造出第一个借助耦合倏逝波(evanescent wave)来提升LED的光提取效率的半导结构。

  通常倏逝波是在total internal reflection的过程中产生,这种波一离开反射介面就会迅速衰减。全内反射是限制光电器件发光效率的主因,LED制造商为了增加产品整体的发光效能,正不断设法提升提取效率并消除全内反射。最近,日本工业技术总合研究所(AIST)的人员利用倏逝波在脊状结构处产生建设性耦合,从具有脊状结构的砷化鎵量子井中提取出至少50%的发光率。

  AIST的研究人员以MOCVD在表面已经刻蚀出脊形的基板上制造所要的结构,并测量样品的光致发光,结果得到约50%的提取光效率,这约是传统平板结构的20倍。该小组在巴黎纳米研究所的支援下,透过物理过程的类比确认倏逝波在扮演着重要的角色。当脊状的脊背含有一宽度为0.5μm的平臺时,光提取率达到最大,并随着平臺宽度增加而迅速减少。研究人员表示,AIST正在使用此机制制造电激发式LED,他们将是第一个倏逝波应用于此的团队。

  目前,英国Glasgow大学Faiz Rahman正致力于利用纳米压印法提升LED的光提取率,他表示AIST使用的机制类似声波原理,对于提升LED亮度来说是一种创新。Rahman指出,AIST基板结构的制造方法与其他LED研究团队直接在外延结构上定义图案的方法截然不同,制作沟槽基板(grooved susbtrate)的难易程度将决定这项技术未来的发展。(编辑:XGY)

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