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蓝光LED节能效益惊人细节揭秘

2015-08-12 作者: 来源:新兴产业战略智库 浏览量: 网友评论: 0

摘要: 本文追溯了氮化镓材料和蓝色发光二极管的发展历史,回顾了重要的历史事件。III 簇氮化物是直接带隙半导体材料,发光范围紫外到红外,覆盖整个可见光区,是理想的光电器件材料。同时,具有优越的物理性质,在高温、高能、高频微波器件以及高压电子电力器件都有广泛的应用。


  随后,赤崎研制的MIS 型蓝色LED开始样品供货。在Gan研究取得突破的前夜,1981年赤崎离开松下技研到名古屋大学担任教授。名古屋大学素以坚持学术自由而著称。为支持赤崎勇开展化合物半导体研究,名古屋大学专门建造了一间超净实验室。为回报名古屋大学,赤崎勇将研究室变成了一座“不夜城”。从此,这里成为赤崎研发Gan蓝色发光器件的中心舞台。

  当时最尖端的MOCVD装置不但价格昂贵,高达数千万日元,而且没有用于生长Gan的商用设备。赤崎研究室每年的研究经费约为300万日元,捉襟见肘,他们只能自己动手,靠购买零部件,利用旧的加热用振荡器,企业捐赠的60cm的石英管等组装完成了MOCVD装置,但优质Gan薄膜的生长并不顺利。1983年天野浩从名古屋大学工学部本科毕业后,幸运成为赤崎勇的硕士研究生。在两年的时间里,除了新年这天,天野不分昼夜,每天都在做GaN生长实验。对衬底温度、反应室真空度、反应气体流量、生长时间等条件反复进行调整,做了1500多次实验,但依然没有生长出好的Gan薄膜。

  借助了MOCVD和蓝宝石衬底还是没有成功,一直困扰赤崎的难题依然没有解决。他开始意识到: 蓝宝石衬底与Gan晶体之间的晶格常数失配,相差高达16%,热膨胀系数也相差较大,这是造成晶体质量差的原因。他想到了以前在GaAsp和GaAs衬底上异质外延GaInAsp时采用过的缓冲层方法。

  “为了解决晶格常数和热膨胀系数失配造成的困难,我觉得需要在蓝宝石衬底与Gan之间插入某种柔性的极薄缓冲层,而此中间层材料的特性最好与蓝宝石或Gan相似。“赤崎选中了AlN、GaN、SiC 和ZnO 四种材料,因为从1965年开始就研究Aln的晶体生长和光学特性,他对Aln最为熟悉。所以,最先开始了用Aln作为缓冲层材料的实验。

  1985年的一天,如同往常生长Gan一样,天野把MOCVD的炉内温度提高到1000℃ 以上的生长温度。这时,碰巧炉子出了问题,温度只达到700 ~800℃左右,无法生长Gan薄膜。但此时天野的脑海里冒出了“加入Al也许能提高晶体质量”的念头。于是,天野在蓝宝石衬底上试着生长Aln薄膜。在这一过程中炉子恢复了正常,天野又将炉温提高到1000℃继续生长Gan薄膜。后来样品经显微镜观察发现生长出了均匀的Gan薄膜。歪打正着成就了低温生长Aln缓冲层技术,这是发明蓝光LED的突破性技术之一,此成果于1986年发表在应用物理快报上,天野为第一作者,赤崎名列第三。

  无巧不成书,另一项重大突破———p型Gan掺杂的实现也是偶然被天野所发现。

  生长出优质Gan薄膜后,他们自然把重点放在了p型掺杂的研究上。天野选择锌( Zn) 和镁( Mg)作为受主,掺杂到Gan薄膜中,但尝试了多次始终没有实现p型掺杂。当时正在攻读博士的天野去NTT 进行了为期1 个月左右的实习,他用电子显微镜观察掺Zn的Gan薄膜表面,意外发现在反复的量测后样品发出了极为微弱的荧光。天野认为掺Zn的Gan薄膜的导电特性发生了变化,可是经过测量,发现并没有形成p型。就在天野觉得Gan薄膜可能真的无法实现p掺杂而决定放弃时,他看到了一本教科书,书中说Mg 是比Zn更容易实现p型的受主。于是,天野把Gan薄膜中掺杂的受主由Zn换成Mg,再次进行电子显微镜观察。果然,掺Mg 的Gan薄膜变成了p型。赤崎勇教授与天野浩如获至宝,将其发现发表在日本应用物理期刊上,并提出了一套物理机制来解释他们的发现,认为是低能电子束辐照( LEEBI) 的作用实现了GaN: Mg 薄膜的p型导电。现在我们知道当初师生俩所提出的物理机制是错误的,但此发现却造成了科学界的轰动。Gan的p型掺杂成为发明蓝光LED的另一项重大突破。正可谓: 众里寻他千百度,蓦然回首,那人却在灯火阑珊处。

  赤崎和天野的研究小组很快于1989年在全球首次研制出了p-n结蓝色LED。

  同时,就在Gan蓝光LED探索发展的关键时期,中村修二以一匹黑马的姿态跃上舞台。他凭着“作别人不做的题目才有最大的发展机会”的想法,选择研究氮化镓。在上世纪80年代初很少人关注氮化镓,作此选择无异于一场豪赌。中村修二自1979年加入日亚化工,这是一个一切以产品销售为导向的小公司。身为小技术员,默默无闻的中村在地下室独自一人悄悄捣腾蓝光二极管。他在研究上的突破不被重视,被称为“吃白饭的”,“上司每次见到我都会说,你怎么还没有辞职? 把我气得发抖。”中村回忆道。经过数年努力,中村于1992年第一次利用了InGan/Gan周期量子阱结构,取代了传统的p-i-n结构,大幅度地提高了蓝光LED的发光效率。

  他还发展了外延技术,用低温生长的薄层Gan替换Aln作为缓冲层。同时中村等人为了解开p型Gan的谜团做了一系列的实验,发现电子束对于p型激活的作用只可能来自于热激活和高能电子的轰击两种因素。因此,他们将GaN: Mg 样品放入700℃以上的N2和NH3气氛下退火,实验发现都成功实现稳定的p型GaN。证明热处理( 退火) 能有效激活掺杂的Mg 受主。至此,p型Gan的难题得以突破。

  在1993年实现了蓝光LED的量产。所以,中村对发明蓝光LED和使其走出实验室,走进千家万户都做出重要贡献,并且他在相当长的一段时间里引领着Gan基LED和LD的研究。

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