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蓝光LED节能效益惊人细节揭秘

2015-08-12 作者: 来源:新兴产业战略智库 浏览量: 网友评论: 0

摘要: 本文追溯了氮化镓材料和蓝色发光二极管的发展历史,回顾了重要的历史事件。III 簇氮化物是直接带隙半导体材料,发光范围紫外到红外,覆盖整个可见光区,是理想的光电器件材料。同时,具有优越的物理性质,在高温、高能、高频微波器件以及高压电子电力器件都有广泛的应用。

  蓝色发光LEDs的早期研究

  蓝色发光LED的研究更为漫长和曲折。起初人们尝试研究间接带隙的碳化硅( SiC) 和直接带隙的硒化锌( ZnSe) ,都没能实现高效发光。1950s后期,Philips Research实验室已经开始认真研究基于GaN的新发光技术的可行性,尽管那时Gan的带隙才刚刚被测定。H.G.Grimmeiss 和H.Koelmans 用不同的活化剂,实现了基于Gan的宽光谱高效光致发光,据此申请了一项专利。然而,当时Gan晶体的生长非常难,只能得到粉末状的小晶粒,根本无法制备p-n结。Philips 的研究者放弃了Gan的研究,决定还是集中力量研究Gap体系。

  1960s后期,美国、日本和欧洲的数个实验室,均在研究Gan的生长和掺杂技术。1969年,Maruska和Tietjen首先用化学气相沉积( Chemical Vapor phase Deposition) 的方法在蓝宝石衬底上制得大面积的Gan薄膜,这种方法是用HCl 气体与金属Ga 在高温下反应生成GaCl,然后再与NH3反应生成GaN,这种方法的生长速率很快( 可达到0.5 μm/min) ,可以得到很厚的薄膜,但由此得到的外延晶体有较高的本底n型载流子浓度,一般为1019cm -3 。

  1971年美国RCA实验室的Pankove研究发现了氮化物材料中形成高效蓝色发光中心的杂质原子,并研制出MIS( 金属-绝缘体-半导体) 结构的GaN蓝光LED器件,这就是全球最先诞生的蓝色LED。但是限于当时的生长技术,难于长出高质量的Gan薄膜材料,同时p型掺杂也未能解决,因此外部量子效率只有0.1%,看不到应用的前景。蓝色发光二极管成为横在科学家面前的难题。Gan熔点高,缺乏匹配衬底,Gan晶体生长十分困难,而且能隙比ZnSe大,因此p型掺杂被认为是难上加难。所以大多数研究人员都放弃了Gan的研究,或者转战ZnSe。Gan研究陷于较长时间的停滞期。

  艰难的探索

  人类对III族氮化物的研究可以追溯到八十多年前,首先是在1932年, Johnson等人利用金属Ga和氨气反应,制备合成了Gan的粉末。但此后Gan的研究一直处于停滞阶段。在旷日持久的艰难跋涉中,许多人看不到希望而放弃了努力,现年85岁的赤崎勇是少数的孤行者,奋斗了几十年,在持久的探索中找到了一条通向光明的路。

  赤崎勇早年毕业于京都大学,1952年入职神户工业公司,该公司以重视科学研究著称。当时,江崎也在该公司从事科研工作,1973年江崎因在半导体中发现电子的量子隧穿效应获得诺贝尔物理学奖。受其影响,赤崎勇也将主要精力投入到了半导体研究。1959年,赤崎勇进入名古屋大学工作,1964年获得该校博士学位。1981年至1992年任名古屋大学教授。1992年,转到名城大学担任教授至今。

  适合蓝色发光的宽禁带半导体材料有碳化硅( SiC) 、硒化锌( ZnSe) 和GaN。1960年代,致力于蓝色发光器件研究的人员大多都以这3种材料为研究对象。在当时只有SiC就实现了p-n结,成为研究重点。而SiC为间接带隙半导体,难以实现高效发光,更无法制成半导体激光器。ZnSe和Gan虽然都是直接带隙材料,但晶体生长非常困难,而且都没有形成p型掺杂。

  赤崎早在1966年前后就对蓝色LED和蓝色半导体激光器的开发持有强烈意愿。当时他就职于松下电器东京研究所( 后更名为松下技研) ,主要从事氮化铝(AlN) 和砷化镓( GaAs) 的晶体生长及特性研究。1970年代,美国RCA公司和荷兰飞利浦公司的同仁先后放弃氮化镓研究,赤崎却迎难而上,于1973年正式开始Gan蓝色发光器件的研究。“我也知道Gan的p-n结和蓝色发光器件非常难以实现。但既然反正都要做,就决定挑战一下比较难的GaN。”他立下的目标是实现p型掺杂,实现亮度更高的蓝色LED和蓝色半导体激光器,将此挑战作为毕生的事业。

  1974年,赤崎的研究小组利用旧的真空蒸镀装置改造拼凑了MBE( 分子束外延生长) 装置,长出了不太均匀的Gan薄膜。第二年,赤崎提交的“关于蓝色发光元件的应用研究”申请获得日本通商产业省的起为期3年的资助。赤崎用这笔资金购置了新的MBE 装置继续进行实验,但Gan薄膜的质量并没有得到提高。随后他们又尝试了HVPE( 氢化物气相外延) 法,进展仍然不尽如人意。赤崎认识到: 由于氮气的蒸汽压极高,采用超高真空的MBE 法并不是最适合Gan的生长,而HVPE法的生长速度过快,而且伴随部分逆反应,晶体质量较差。MOCVD( 有机金属化学气相沉积) 的生长速度介于MBE 法和HVPE法之间,最适合Gan生长。于是在1979年赤崎决定采用MOCVD法研究Gan的生长。在衬底选择上,赤崎综合考虑晶体的对称性、物理性质的匹配、对高温生长条件的耐受性等因素,经过一年多实验,在对Si、GaAs 和蓝宝石等进行反复对比研究后,决定使用蓝宝石作为外延衬底。同时,赤崎做出的这两项决定,即采用MOCVD生长法和蓝宝石作为外延衬底,无疑是重要的关键的决定,至今仍然被广泛采用。

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