为打破国内LED产业受制于人的局面，《半导体照明科技发展“十二五”专项规划》明确提出，“十二五”期间将“实现大型MOCVD设备及关键配套材料的国产化”。2015年将是“十二五规划”的收官之年，剩下的时间已经不多，LED设备国产化的目标能否按时实现?

　　关键设备国产化已经实现

　　从蓝宝石材料开始，一直到PSS、外延、芯片端，再到最后的减薄等工艺，目前，国产设备已经能够很好地代替进口设备。

　　LED设备相关研究报告2015-2020年有机发光二极管行业风险投资态势及投融资策略指引报

　　2014年11月2015-2020年中国流量计市场深度调查与投资发展研究报告2015-2020年中国力矩电机市场深度调查与投资发展研究报告2015-2020年中国离合器分泵市场深度调查与投资发展研究报告123　　半导体照明/LED产业与应用联盟秘书长关白玉告诉记者，我国LED专用设备、仪器和材料配套能力正在逐步形成。自主创新的金属有机源(MO源)实现大规模应用，占国内市场的60%以上;蓝宝石衬底材料可满足国内市场需求的50%以上，目前图形化衬底已经在批量供应，产品结构的调整已见成效;自主开发的荧光粉、塑封树脂占有30%的市场份额。

　　关白玉表示，2012年年底，国内多家企业研发成功的外延设备MOCVD开始与芯片厂家进行工艺磨合。2013年和2014年电子发展基金项目支持的MOCVD等国产设备相继进入芯片生产线试用，从目前情况来看，进展顺利。同时，多种LED生产专用设备和多种光、电、色、热性能检测仪器等已经用于LED生产线，运行稳定。

　　“就LED的生产过程来说，从蓝宝石材料开始，一直到PSS、外延、芯片端，再到最后的减薄等工艺，目前，国产设备已经能够很好地代替进口设备。”北方微电子装备有限公司副总裁纪安宽在接受记者采访时表示，“尤其是最近几年发展比较快的外延、芯片的关键设备，也都实现了国产化。”

　　按工序的具体顺序来看，据纪安宽介绍，浙江晶盛生产的90公斤蓝宝石单晶炉，苏州赫瑞特、湖南宇晶、唐山晶玉、中国电子科技集团公司第四十五研究所(以下简称“45所”)等生产的多线切割机，中晟光电、中微半导体的MOCVD设备，45所的清洗设备、光刻机，北方微电子的PECVD设备、ITO薄膜溅射设备、AlN薄膜溅射设备、GaNICP刻蚀机、PSSICP刻蚀机，深圳矽电半导体设备有限公司的全自动点测设备，45所、大族激光、苏州德龙的激光划切机，45所的自动粘片机、自动引线键合机等等，各项技术指标均已接近或超过国外主流机型，部分型号已经成为主流企业生产线上的主力量产机型。

　　不同环节市场份额差异较大

　　经过十余年的努力，国内设备生产企业在部分领域取得了突破，获得了较高的市场份额，但是还有很多环节的市场主要被国外企业占据。

　　“2003年左右，LED外延片芯片产业才在国内兴起，由于国产设备起步较晚，国内没有与之配套的生产型设备，设备基本全部通过进口。”君盛投资管理有限公司投资总监张为告诉记者，“经过十余年的努力，国内设备生产企业在部分领域取得了突破，获得了较高的市场份额，但是还有很多环节的市场主要被国外企业占据。”

　　圆融光电科技有限公司是致力于推动LED设备国产化的外延芯片企业，该公司在不同生产环节均有多台国产设备投入使用。在说到国产设备的强势领域时，圆融光电董事长梁旭东告诉记者，北方微电子ELEDE330系列干法蚀刻机在国内大约占到了60%的市场份额，苏州德龙和深圳大族激光联手抢到了划片机约80%的订单，沈阳芯源的直线型匀胶机也走进了国内大多数芯片企业的生产车间。此外，多家MOCVD企业开始推出样机，并正在从实验室走向工厂，开始正式转化为产品。

　　划片机、蚀刻机、匀胶机都是值得一提的应用领域。梁旭东表示，以划片机为例，2008年以前国内使用的激光划片机只有Newwave、Opto、JPSA等3家企业的产品，进口设备一统天下，完全看不到国产设备的身影。在2008年5月份以后，市场上陆续出现了德龙、大族、华工等国内设备企业。经过他们几年间不懈的努力，到2011年，紫外划片机市场已经基本成了国产设备的天下，设备单价大幅下降，设备产能也大幅提升。

　　2011年之后，随着芯片企业对芯片亮度的不懈追求，传统紫外切割已逐渐显露出很多不足，隐形划片机逐渐走进了人们的视野，大族激光和苏州德龙也陆续推出了隐形划片机。由于隐形切割专利被日本滨松公司掌握，很快德龙就被专利困住，大族激光乘此机会紧急购买日本专利，并迅速进入市场。德龙也积极寻求突破口，对国际专利发起挑战，终于在2013年将该专利彻底无效，打破了日本专利的垄断格局，隐形切割设备的生产和芯片的生产得到了彻底解放。

　　再来看看LED设备中最核心高端的MOCVD设备。据梁旭东介绍，目前圆融光电正在和两家国内MOCVD企业进行合作。其中一家是中晟光电，目前在圆融有2个反应腔，处于调试阶段，后续将增加为4个反应腔合一的整体结构。中晟MOCVD单个反应腔的容量为66片(2英寸)，设备整体设计较为精良，操作方便，中文界面，有利于操作人员工作。“初步的结果较理想，正在做进一步的调试研究。希望未来在维护周期方面可以适当延长，提高设备的利用率。”梁旭东表示。

　　另一家是中微半导体，目前在圆融有2个MOCVD反应腔，其中1个已经投入量产。“产品性能可以达到我公司的内部标准，性能指标与Veeco机台表现接近。另外1个反应腔在调试过程中，后续也将增加为4腔。”梁旭东表示，“中微MOCVD单个反应腔的容量为54片(2英寸)，由于是新的设备，在调试过程中也发现了一些可提升的空间，希望在今后可以通过设计、部件等方面的优化使设备更加完善。”