光刻胶是半导体芯片和平板显示器加工领域的重要配套材料。永光化学在苏州设立生产基地，就近服务中国大陆客户，为中国大陆半导体及显示屏|显示器件行业提供了有力的支撑。此外，永光化学的负性光刻胶也独具特色，可服务于LED芯片制造的特殊工艺。

　　近年来，中国大陆的半导体产业发展十分迅速，预计到2010年，大中华地区将提供全球信息产业所需集成电路数量的70%，所以中国大陆对于全球领先的半导体材料供应商而言是兵家必争之地。

　　因地制宜拓展市场领域

　　永光化学总部位于我国台湾地区，其电子化学事业处主要以我国台湾地区为研发基地，在光刻胶领域取得了令人瞩目的业绩。台湾地区是全球集成电路代工的重镇，这使永光得以就近与全球领先的集成电路制造厂商进行合作，可以与客户进行顺畅的沟通，同时，还可以到客户的生产线上进行产品测试。

　　永光(苏州)光电材料有限公司销售副总经理孙哲仁在接受《中国电子报》记者采访时表示，在中国大陆，永光化学针对大陆不同地区的特点采取了不同的发展策略。由于华东地区是中国大陆集成电路制造业的主要聚集地，因此永光以上海为中心，瞄准高阶工艺的需求，和客户共同开发适用的优势产品;在华南市场，由于该区客户的特色为作业弹性较高，机动性强，因此在市场开拓上倾向于成熟度高的光刻胶产品，主要满足客户的近期需求，以便能迅速实现量产。

　　材料供应与产业聚集度息息相关，对于一个材料供货商而言，设厂需要投入巨额的资金，更要担心技术外流。所以，在市场不够大或产业技术未成熟的地区，材料供货商往往是先成立销售点来服务客户，等到能达到经济规模才考虑在当地设厂。但从半导体业者的角度看，如果本地没有良好的材料供货商，就不能生产出具有成本优势的产品来扩大市场。孙哲仁表示，以中国幅员之辽阔，如果原材料制造基地远离半导体芯片生产基地，将大幅度提高原材料的运输成本。正是由于认识到华东地区是中国大陆半导体产业的主要聚集地，永光化学才会把生产基地设在苏州，以便就近服务客户。当然，永光化学也不会放弃对中、西部地区业务的拓展，永光期待与这些客户充分合作，克服运输、库存等方面的困难。

　　另据孙哲仁透露，位于苏州工业园区的永光(苏州)光电材料有限公司一期工厂已经开始向客户提供数码打印机墨水、显影液、单晶硅的抛光液和CD-R染料等四大类产品，而苏州工厂的二期工程目前也正在建设中。他表示，预计永光苏州生产基地将在今年年底实现盈亏平衡。

　　负性光刻胶服务LED特殊工艺

　　目前，G线光刻胶在永光的光刻胶产品中占据主导地位，而I线光刻胶也已经投入生产。据孙哲仁预测，在未来两三年内，I线光刻胶将逐渐成为主流。在更高端的产品方面，永光的DUV(深紫外)光刻胶也已经通过了8英寸和12英寸晶圆生产线的验证。此外，环氧树脂封装胶也是永光化学的另一类重要产品，此类产品应用在半导体芯片封装产业中。

　　永光化学的光刻胶产品还应用于LED(发光二极管)芯片的制造过程中。通常半导体工艺中制作金属电极的流程是：先在衬底表面蒸镀或溅射一层金属，然后通过光刻和刻蚀工艺将该层金属中不需要的部分去除，从而得到所需的图形。孙哲仁告诉《中国电子报》记者，LED的电极所使用的金属材料不易通过刻蚀的方式得到其图形，因此就需要应用Lift-Off(拔起)工艺，先在衬底上涂覆一层光刻胶，然后进行光刻，在形成所需的图形之后再蒸镀金属，最后再将残存的光刻胶及涂覆在这些光刻胶之上的金属去除，从而得到金属电极的图形。在这一过程中，需要用到负性光刻胶，永光化学的ENPI200系列光刻胶产品就是很好的选择。

　　另据孙哲仁介绍，永光化学为迎合LED客户不同的生产工艺，也积极开发与之相适应的Lift-Off光刻胶。例如，针对不利于形成图案的高反射衬底材料，永光开发了内含染料的Lift-Off光刻胶，以消除因高反射而造成的过多的交联反应;另外，当LED工艺必须微缩化以增加其发光亮度时，永光化学也配合客户开发高解析Lift-Off光刻胶EPI622，以特殊的工艺将线宽缩减至1微米以下，可用于高亮度LED细线宽工艺。孙哲仁表示：永光化学将以多年光刻胶开发及生产经验，向LED客户提供最适用的光刻胶产品，希望能在LED产业蓬勃发展之际，协助客户掌握关键黄光化学材料相关工艺技术，进而增强其生产整合能力的优势，提高全球竞争力。

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