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退火对用pld法制备zno薄膜的发影响

用x射线衍射(xrd)进行了表征.实验结果表明,随着退火温度的提高,zno薄膜的压应力减小,并向张应力转化

  https://www.alighting.cn/resource/20110906/127191.htm2011/9/6 14:09:53

厚度对gan薄膜的发性能的影响

研究发现不同厚度gan 薄膜的吸收截止边均在3.38ev 附近,在它们的(pl)中也观察到了相同位置带边峰。

  https://www.alighting.cn/2014/12/15 11:41:03

德国研制出无线供电的有机电装置

借助类rfid能量采集技术与有机电子组件的结合,德国有一群公司以无线方式启动了印刷式电(electroluminescence)装置;这种技术也适合支付卡等安全性应用领域。

  https://www.alighting.cn/resource/20090729/128720.htm2009/7/29 0:00:00

有机电显示器件oled简介

由华嘉电技术有限公司的姚华文所整理的《有机电显示器件oled简介》,现在分享给大家。

  https://www.alighting.cn/resource/20130313/125899.htm2013/3/13 10:11:17

二极管用发材料研究进展

二极管(led)是固体照明的重要源。荧体转换是获取白led的主要途径之一。当前,转换用荧体的研究在发材料领域中最活跃。本文对近年来白led用发材料新体

  https://www.alighting.cn/2013/3/26 11:15:08

moo_3作空穴注入层的有机电器件(英文)

研究了三氧化钼(moo3)薄层作为有机电器件空穴注入层的器件性能和注入机制。发现1nm厚度下发器件性能最佳,器件的最大电流效率比对比发器件的最大电流效率提高1.6倍。器

  https://www.alighting.cn/resource/20110930/127047.htm2011/9/30 11:19:54

na-mg共掺杂zno薄膜的结构和学性质

利用溶胶-凝胶法,在普通载玻片上使用旋转涂膜技术制备了具有c轴择优取向生长的na-mg共掺杂的zno薄膜。用xrd、sem、(pl)及透射对薄膜样品进行了表征。

  https://www.alighting.cn/resource/20111018/127006.htm2011/10/18 14:46:03

氧分压对pld制备zno薄膜结构和发性质的影响

采用脉冲激沉积(pld)技术,在si(100)衬底上制备出高度c轴取向的zno薄膜。通过x射线衍射(xrd),扫描电镜(sem)和室温(pl)的测量,研究了生长气

  https://www.alighting.cn/2013/5/7 11:24:11

生长温度对6h-sic上sicge薄膜发特性的影响

利用低压化学气相淀积工艺在6h-sic衬底成功制备了sicge薄膜。通过(pl)研究了生长温度对sicge薄膜发特性的影响。结果表明:生长温度为980,103

  https://www.alighting.cn/2013/5/10 11:36:06

al_2o_3/si(001)衬底上gan外延薄膜的制备

x射线衍射峰半高宽是 72arcmin ,薄膜的玛赛克 (mosaic)结构是x射线衍射峰展宽的主要原因 .室温下gan的带边峰位于 36 5nm

  https://www.alighting.cn/resource/20110815/127311.htm2011/8/15 17:59:24

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