VEECO推出高产能离子束沉积镀膜机系统
摘要： 4月16日，Veeco公司在比利时布鲁塞尔正式发布了应用于光学镀膜的离子束沉积(IBD)系统SPECTOR-HT?。与前一代的镀膜机设备SPECTOR相比较，SPECTOR-H?最多能提供400%的产能增长，靶材使用率提高300%，材料生长的均匀性提高50%。
【新世纪LED网】4月16日，Veeco公司(纳斯达克股票代码：VECO)在比利时布鲁塞尔Square Brussels Meeting Centre由国际光学工程学召开的欧洲光子学展上，正式发布了应用于光学镀膜的离子束沉积(IBD)系统SPECTOR-HT™。与前一代的镀膜机设备SPECTOR相比较，SPECTOR-H™最多能提供400%的产能增长，靶材使用率提高300%，材料生长的均匀性提高50%。此外，该新系统提供卓越的薄膜质量，并为各种光学应用提供低成本的生产平台，包括精密光学、激光、生命科学、生物医学设备以及通信。
Veeco离子束设备执行副总裁Robert P. Oats表示：“Veeco在全球安装超过200台设备，是公认的光学业内离子束沉积镀膜的领导者。与其他相关技术相比，例如物理气相沉积(PVD)，蒸发镀膜或者里子辅助沉积，新一代的SPECTOR-HT™系统提供无与伦比的产能优势和低成本平台。”
SPECTOR-HT™ 是业内首个完全自动化的离子束沉积系统。实现了在媲美PVD的快速沉积速率下保证高质量、优化薄膜以满足挑战性的生产要求。在批量生产时新系统要比前一代的SPECTOR沉积速律快2倍。
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