7月22日上午，上海证券交易所举行科创板首批公司上市仪式，标志着科创板正式开市。伴随着开市锣声的响起，中国资本市场迎来历史一刻!
首批25家科创板上市公司
站在聚光灯下的首批25家企业在今日同时挂牌交易，这25家集体挂牌的企业分别是：睿创微纳、容百科技、华兴源创、虹软科技、光峰科技、福光股份、安集科技、中微公司、交控科技、新光光电、澜起科技、天准科技、乐鑫科技、南微医学、铂力特、瀚川智能、方邦电子、心脉医疗、天宜上佳、沃尔德、航天宏图、西部超导、嘉元科技、杭可科技、中国通号。
从地区上看，注册地在北京及上海的公司最多，均各有5家;注册地在江苏的有4家，位居第二。行业划分中，属于计算机、通信和其他电子设备制造业的企业最多，达到9家;其次是专用设备制造业，达8家。
按2018年扣非前归母净利润除以发行后总股本计算估值水平，25家公司的发行市盈率平均值为49.21倍，市盈率最低的中国通号为18.18倍，市盈率最高的中微公司为170.75倍。
另外，在25家企业中，有10家去年营业收入超过10亿元，占比为四成。在净利润方面，有13家企业去年归母净利润超过1亿元，占比超过半数。
而25家企业披露的上半年业绩公告显示，有23家净利润同比实现增长。若单从归属母公司股东的净利润看，中国通号以21.1亿-22.8亿元独占鳌头，同比增长约6.3%-14.8%。若以净利润增长幅度看，中微公司(预计增长288.66%-326.39%)、嘉元科技(预计增长219.19%-288.99%)增幅领先。
企业的创新科研投入是重要指标，首批科创板上市企业科技成色很足。25家上市公司2018年研发投入金额在营收中平均占比11.3%，远高于A股其他板块。其中15家企业去年研发投入在5000万元以上，7家去年研发投入超过亿元，中国通号研发投入高达13.8亿元。
当日开盘，25家企业全线大涨，其中，安集微电子、中微半导体、澜起科技、心脉医疗四家涨幅一度超过200%，虹软科技、睿创微纳等十余家企业涨幅逾100%，即便是涨幅最窄的天准科技，也创出了逾50%的涨幅，远超此前机构预测的数据。
不过，开盘后由于股价较高迎来很大抛盘，多数股票短暂冲高后开始回调，多只股票因涨跌幅较开盘价超过30%而临时停牌。但是，只有杭可科技是因为较开盘价涨幅达到30%而临时停牌10分钟，其他股票都是因为下跌30%而停牌，包括睿创微纳、天准科技、中国通号、中微公司、交控科技、乐鑫科技、瀚川智能、虹软科技、嘉元科技等9只股票。
短暂回调后，大部分股票目前又开始回升，其中，安集科技涨幅已经超过500%，进入第二次临时停牌。
根据临时停牌机制，当盘中股价较当日开盘价首次上涨或下跌幅度达到30%、60%时，将分别进行一次临时停牌。单次盘中临时停牌的持续时间为10分钟。停牌时间跨越14时57分的，应于14时57分复牌。
截至午间收盘，科创板首批25家公司涨幅全部超100%，6家公司涨幅超200%，25家公司平均涨幅约为160%，平均换手率约为62%。
中微公司——半导体设备领先企业
在上市仪式上，中微公司董事长尹志尧代表上市公司致辞。
中微公司从事半导体设备的研发、生产和销售，为全球半导体制造商及其相关的高科技新兴产业公司提供高端设备和工艺技术解决方案，主要为集成电路、LED芯片、MEMS等半导体制造企业提供刻蚀设备、MOCVD设备及其他设备。公司主要客户有台积电、中芯国际、海力士、华力微电子、联华电子、长江存储、三安光电、华灿光电、乾照光电、璨扬光电等。
等离子体刻蚀设备是集成电路生产线上三大主体设备之一，MOCVD设备是光电器件、功率器件等多种半导体器件制备的关键设备。刻蚀设备及MOCVD设备行业均呈现高度垄断的竞争格局。中微公司研发的核心技术和产品面向世界科技前沿，是我国极少数能与全球顶尖设备公司直接竞争并不断扩大市场占有率的企业，是国际半导体设备产业界公认的后起之秀。
等离子体刻蚀设备：达到世界先进水平，符合产业发展趋势
自2004年成立伊始，中微公司首先开发甚高频去耦合等离子体刻蚀设备Primo D-RIE，到目前为止已成功开发了双反应台Primo D-RIE、双反应台PrimoAD-RIE和单反应台Primo SSC AD-RIE三代刻蚀设备，涵盖65纳米、45纳米、32纳米、28纳米、22纳米、14纳米、7纳米和5纳米微观器件的众多刻蚀应用。
2012年中微公司开发电感性等离子体刻蚀设备，到目前为止已成功开发单反应台Primonanova刻蚀设备，并同时开发双反应台电感性等离子体刻蚀设备，主要涵盖14纳米以下微观器件的刻蚀应用。
MOCVD设备：打破国外垄断，占据主导地位
薄膜沉积设备方面，公司从2010年开始开发用于LED外延片加工中最关键的设备——MOCVD，包括第一代设备Prismo D-Blue、第二代设备Prismo A7及正在开发的第三代30英寸大尺寸设备，可用于蓝绿光LED、功率器件等的制备。公司MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产。公司已成为世界排名前列、国内占主导地位的氮化镓基LED设备制造商。
2017年以前MOCVD设备主要被维易科和爱思强两家国际厂商垄断。2017年以来公司自主研发的MOCVD设备逐步打破垄断，设备已被三安光电、华灿光电、乾照光电等一流LED制造厂商大批量采购。截至2018年末，累计已有1,100多个反应台服务于国内外40余条先进芯片生产线。
公司的MOCVD设备Prismo D-Blue、Prismo A7能分别实现单腔14片4英寸和单腔34片4英寸外延片加工。Prismo A7设备技术实力突出，已在全球氮化镓基LED MOCVD市场中占据主导地位。同时公司正在开发更大尺寸MOCVD设备。公司正在研发的设备也覆盖了紫外光LED、Mini LED市场。
半导体设备有望保持较高景气度，进口替代空间巨大。半导体设备行业是半导体芯片制造的基石，对产业具有有成百上千倍的放大作用，其中薄膜沉积、光刻和刻蚀是三大核心制造环节。国内半导体设备行业在行业技术升级变革带动产能扩张、集成电路工艺的进步刺激设备需求增加、全球半导体向中国大陆转移加速设备国产化，以及良好的产业扶植政策等多重因素推动下有望保持高景气度。全球半导体设备集中度较高，CR10近80%。2018年中国大陆半导体设备销售额达131.1亿美元，同比增加59%，自给率仅约为 12%，其中集成电路设备的国内自给率只有 5%左右，在全球市场只有近2%份额。中微公司刻蚀设备在国内主要客户市场份额近16%，未来上升潜力大。
中微公司拥有一支豪华的国际化技术团队。公司创始人、董事长及总经理尹志尧博士在半导体芯片和设备产业有35年行业经验，是国际等离子体刻蚀技术发展和产业化的重要推动者，拥有应用材料、泛林半导体等国际一流半导体设备企业研发、管理经验。公司的其他联合创始人、核心技术人员，包括杜志游博士、倪图强博士、麦仕义博士、杨伟先生、李天笑先生等在内的160多位各专业领域专家。
公司具备持续的关键技术创新能力。公司一直以来保持较高的研发投入，2016-2018年研发费用占收入比例49.62%、34%、24.65%。截至2019年2月末，公司申请了发明专利1,038项，等离子刻蚀专利占比80%，MOCVD专利占比20%，且海外发明专利占比为45%。电容性等离子体刻蚀设备中，中微开创性地推出甚高频去耦合等离体子刻蚀技术;电感性等离子体源方面，中微创造性地设计新型电感线圈架构;MOCVD设备方面，中微设计精确定位的托盘锁定机制。
经营业绩快速增长。2018年公司实现收入16.39亿元，同比增加68.66%;实现归母净利润0.91亿元，同比增加203.72%。公司盈利能力较强，整体毛利率维持在32.45%，其中刻蚀设备以47.52%的毛利率领先其他产品。2018年末公司在手订单达15.89亿元，2019Q1新签销售订单达6.26亿元。
公司募集资金将投入于扩大产能及研发，进一步提升公司潜力。公司拟募集资金10亿元，将按轻重缓急程度投入资金，其中扩大产能包括现有刻蚀设备扩产、MOCVD设备扩产和配套建设施工;研发项目包括先进刻蚀设备研发。公司对募集资金的安排合理，有望保持并增强公司技术优势。
关于科创板
自去年11月科创板首次被提出，至7月22日科创板开市，仅历时8个月。
自3月22日上交所受理首批公司科创板上市申请，截至7月21日，4个月时间内科创板受理企业数量达到149家。自6月27日科创板第一股进行申购，至7月12日，首批上市的25家公司已经全部完成发行申购，参与网上打新的个人投资者数量已经突破310万人。
科创板实行注册制，这在A股市场是第一次。
科创板在设计之初，就明确了其科技创新助推器和制度改革试验田的基本定位。从科技创新助推器来说，科创板要支持有发展潜力、市场认可度高的科创企业发展壮大，助推经济转型升级。但与此同时更应通过制度实验，为股市结构性调整指明方向和路径。
为适应科创的企业的特点，科创板设立了全新的制度和规则，新规则多达40余项，富有很大的包容性。
总体而言，科创板的推出有助于鼓励创新创业、加强对实体经济的创新服务。如今，科创板正式亮相，对激发市场活力、促进我国多层次资本市场建设意义重大。当然，风物长宜放眼量，科创板最终效果如何，也需要上市企业、理性投资者与依法监管的共同守卫。期待各方进一步凝聚共识，形成合力，共同爱护科创板，落实国家战略、维护改革成果。
伴随风雨阳光，愿“试验田”里开出似锦的科创繁花。
