日前，Veeco宣布，其引进的TurboDisc MaxBright氮化镓（GaN）有机金属化学气相沉积法（MOCVD）多反应器系统，用于生产HB LED。

Veeco介绍，MaxBright利用Veeco的FlowFlange集群架构自动化技术和专业知识在一个模块化的两个或四个反应器通过组合多个、新、高通量金属有机化学气相沉积反应器。

该MaxBright反应堆，在K465i的基础上经过生产验证，既要扩大晶圆的生产能力和先进、专有的、封闭循环热控技术，同时扩大-均匀性、重复性和材料的质量。

MaxBright MOCVD系统可提供生产能力达216×2，56×4，24×6或12×8晶圆。此外，无缝转移K465i配方MaxBright能使客户实现快速生产。

同时，Veeco相关人士指出，“MaxBright的价值主张是明确的：它是最高的生产力MOCVD系统制造高亮度LED市场上。该架构支持单腔或多腔层的生长能力，提高LED结构过程的灵活性高要求。”

MaxBright的紧凑型架构还允许一个独立的金属有机化学气相沉积系统足迹效率增益高达2.5倍。总体而言，MaxBright提供了500％的增值比较紧凑封装的K465i以灵活的。”

根据SEMI统计和分析，结合MOCVD供应情况，2011年中国MOCVD新增量份额有望达到全球的40%，而其它地区的增量会保持与2010年相当的水平或出现下降。

MOCVD作为LED制造最核心环节的外延片生长关键设备，也是制造环节中单项投资最大的部分。目前可以提供工业化生产的MOCVD设备制造商有限，集中程度较高，主要在欧美和日本。中国MOCVD设备国产化之路一直走的并不太顺利，只能够生产用于科研的小型MOCVD设备，目前尚无能够提供用于成熟工业化生产的MOCVD设备厂家，但是近来有几家国内设备科研和生产单位给出了设备国产化的时间表，令人期待。

在全球LED产业的发展带动下，近年来MOCVD设备一直处于供应紧张的状态，设备到货期不断被延长。中国MOCVD设备的供应商主要集中在美国Veeco和德国AIXTRON两家。

2010年全球MOCVD新增安装量中，韩国增量最多，其次是台湾地区。根据SEMI统计，中国大陆今年MOCVD新增量在160-180台之间，居全球第三。另外，根据SEMI统计和分析，结合MOCVD供应情况，2011年中国MOCVD新增量份额有望达到全球的40%，而其它地区的增量会保持与2010年相当的水平或出现下降。