日亚控告首尔半导体毁损名誉
2008-01-02
作者：
来源：精实新闻
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摘要： 日本LED大厂日亚化学工业(Nichia Corp.)12月28日发布新闻稿宣布，当日已向南韩首尔中央地方法院控告首尔半导体(Seoul Semiconductor)毁损名誉，除要求5亿韩圜的损害赔偿之外，并要求对方负责恢复名誉相关必要措施。
日本LED大厂日亚化学工业(Nichia Corp.)12月28日发布新闻稿宣布，当日已向南韩首尔中央地方法院控告首尔半导体(Seoul Semiconductor)毁损名誉，除要求5亿韩圜的损害赔偿之外，并要求对方负责恢复名誉相关必要措施。
日亚化指出，基于2006年1月在美国加州递状控告首尔半导体创意侵权，首尔半导体发布相关有损日亚化名誉的不实消息，乃此次诉讼的主因。根据2007年11月8日北加州地方法院陪审团的判断，首尔半导体涉故意侵害日亚化4项创意权，日亚化预期该法院的正式判决将在2008年1月宣判;但首尔半导体无视此一事实，仍在其公司网页上公开指出，法院认定未构成侵权，因此该诉讼实际上乃首尔半导体胜诉。
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