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GaN垂直结构高效led的最新进展

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  https://www.alighting.cn/resource/20150626/130459.htm2015/6/26 10:43:40

新型通孔GaNled结构的电流扩展分析

为了降低siGaNled的开启电压及工作电压,本文提出了一种新型通孔结构发光二级管,并提出一种电路有限元模型,分析此结构发光二极管的注入电流在有源区内的分布情况。

  https://www.alighting.cn/2013/8/20 13:57:10

激光剥离技术实现垂直结构GaNled

剥离, 结合金属熔融键合技术, 在300℃中将GaN led 转移至高电导率和高热导率的, 制备出了具有垂直结构GaN led, 并对其电学和光学特性进行了测

  https://www.alighting.cn/2013/12/13 11:29:48

GaNled研究进展

制及其它电子器件结构生长的一个关健问题。近年来, 随着工艺的发展, GaN晶体质量得到大幅度的提高。同时不少研究小组成功地在si上制造出led。介绍了GaN薄膜开裂问题及近期

  https://www.alighting.cn/resource/20131216/125001.htm2013/12/16 14:04:47

GaNledn极性n型欧姆接触研究

在siGaN垂直结构led的n极性n型面上,利用电子束蒸发的方法制作了ti/al电极,通过了i-v曲线研究了有无aln缓冲层对这种芯片欧姆接触的影响。

  https://www.alighting.cn/2013/9/30 11:37:32

转移板材质对siGaNled芯片性能的影响

在si上生长了GaNled外延材料,分别转移到新的板和铜板上,制备了垂直结构蓝光led芯片。

  https://www.alighting.cn/2015/3/3 10:32:36

2013ls:晶能-上氮化镓垂直结构大功率led的研发及产业化

本资料来源于2013新世纪led高峰论坛,是由晶能光电(江西)有限公司的孙钱/博士、外延研发副总裁主讲的关于介绍《上氮化镓垂直结构大功率led的研发及产业化》的讲义资

  https://www.alighting.cn/2013/6/18 15:53:07

GaNled外延生长的研究

采用在aln缓冲层后原位沉积sin掩膜层,然后横向外延生长GaN薄膜。通过该法在上获得了1.7μm无裂纹的GaN薄膜,并在此础上外延生长出了GaN发光二极管(led)外

  https://www.alighting.cn/2013/3/26 11:05:15

转移板材质对siGaNled芯片性能的影响

在si上生长了GaNled外延材料,分别转移到新的板和铜板上,制备了垂直结构蓝光led芯片。研究了这两种GaNled芯片的光电性能。在切割成单个芯片之前,对大

  https://www.alighting.cn/2013/6/4 10:41:39

不同板1w蓝光led老化性能研究

(si)上外延生长的氮化镓(GaN)led薄膜,通过电镀的方法转移到铜支撑板、铜铬支撑板以及通过压焊的方法转移到新的支撑板,获得了垂直结构蓝光led器件,并对

  https://www.alighting.cn/2013/4/7 17:06:00

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